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    • HORIBA GD Profil射頻輝光放電光譜儀(GD)

      輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結構的強有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結構、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應用行業有金屬冶金、半導體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽極、光學玻璃、核材料等。

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      更新日期:2021-08-20
    • RISE拉曼電鏡聯用系統

      拉曼電鏡聯用系統RISE顯微鏡集成了獨立的掃描電鏡和一臺共聚焦拉曼顯微鏡的所有功能于一體。

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      更新日期:2021-08-19
    • 高分辨ICP光譜儀

      高分辨ICP光譜儀是一種均相溶液分析技術。高溫等離子體激發樣品中的原子和離子產生發射光譜,通過對其譜線及其強度進行測量,從而進行樣品中元素的定性和定量分析。

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      更新日期:2021-08-20
    • CRAIC 20/30全光譜分光光度計

      全光譜分光光度計美國CRAIC發布的新20/30PV顯微光譜分析集成系統為紫外-可見-近紅外顯微光譜學設定了一個新的標準。

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